Roczny Kurs Rysunku

Roczny Kurs Rysunku to kurs przygotowujący do egzaminów rysunkowych na wydziały architektury, architektury wnętrz, architektury krajobrazu oraz na inne kierunki z wymaganym egzaminem z rysunku, na uczelnie w kraju i za granicą. Najpopularniejszą uczelnią wybieraną przez kandydatów tego kursu jest Wydział Architektury Politechniki Poznańskiej WAPP. Kurs opiera się na sprawdzonym i zoptymalizowanym programie zajęć poruszającym wszystkie najważniejsze tematy rysunkowe i kompozycyjne, jak również dotyczące architektury, wyobraźni przestrzennej, projektowania i anatomii człowieka.

• 240-minutowe zajęcia rysunku raz w tygodniu + 18 godzin Otwartej Pracowni

• regularny 10-miesięczny kurs rysunku od września do czerwca

• autorski program nauczania od pierwszych do ostatnich zajęć zoptymalizowany pod kątem Wydziału Architektury na Politechnikach w kraju i zagranicą

• nauka rysowania prowadzona od podstaw przez dwoje nauczycieli RA: architekta lub artystę plastyka z wieloletnim doświadczeniem pedagogicznym oraz asystenta

• indywidualne podejście do ucznia

• niewielkie grupy (7-14 osób)

• zajęcia rysunku m.in. z: perspektywy, geometrii, wyobraźni, martwej natury, projektowania, architektury i studium postaci

• materiały pomocnicze z każdych zajęć, symulacje egzaminów, korekta prac domowych i wykonywanych podczas zajęć

• profesjonalnie wyposażona Pracownia w centrum Poznania przy ul. Półwiejskiej 23/3

• otrzymujesz aż 30% zniżkę na wszystkie kursy sezonowe RA

Na zajęciach ogromną wagę przykładamy do tematów z rysowania architektury, szczególnie tej z perspektywy wnętrza, ponieważ to jeden z najtrudniejszych i często pojawiających się tematów egzaminacyjnych na wydziałach architektur. Uwielbiamy rozmowy o architekturze, szczególnie tej współczesnej, dlatego Roczny Kurs Rysunku to także doskonałe przygotowanie do studiów. W RA uważamy, że najcenniejsze doświadczenia rysunkowe można zdobyć podczas rysunku z natury w plenerze, dlatego w programie przewidzieliśmy również zajęcia prowadzone w mieście.